수십조 중국에 넘어갔다…‘삼성전자 최초 반도체 기술’ 중국에 빼돌린 10명 기소 [세상&]

김윤용 서울중앙지검 정보기술범죄수사부 부장검사가 23일 서초구 서울고등검찰청 기자실에서 ‘세계 1위 K반도체 국가핵심기술 국외 유출사건’ 수사결과를 발표하고 있다. [연합]

[헤럴드경제=양근혁 기자] 검찰이 삼성전자가 세계 최초로 개발한 ‘10나노대 D램 공정 기술’을 중국 경쟁사에 유출한 혐의를 받는 일당을 재판에 넘겼다. 10나노대 D램 공정 기술은 삼성전자가 5년간 1조6000억원을 투자해 양산에 성공한 국가핵심기술로 꼽힌다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장 김윤용)는 23일 삼성전자 부장 출신 A씨를 부정경쟁방지법 위반(영업비밀국외누설 등), 산업기술보호법 위반(국가핵심기술국외누설 등) 혐의로 기소했다고 밝혔다. 검찰은 또한 삼성전자 연구원을 지낸 B씨 등 4명을 지난 5월부터 10월까지 같은 혐의로 구속기소하고, 중국 창신메모리(CXMT) 개발팀 직원 5명도 동일한 혐의로 이달 불구속 상태로 재판에 넘겼다고 전했다. 이들은 모두 국내 기업 출신 한국인이다.

A씨는 삼성전자 퇴사 후 중국에서 자신이 차린 장비회사에 기술을 유출한 혐의로 이미 지난해 1월 구속기소돼 상고심 재판을 받던 중 이날 추가기소됐다.

검찰은 지난 2016년 5월 설립된 중국 최초 D램 반도체 회사인 CXMT가 삼성전자의 핵심인력 영입을 통한 기술정보 확보를 계획하고 이를 실행한 것으로 본다. CXMT는 설립 직후 삼성전자 출신인 A씨를 개발실장, B씨를 설비투자담당으로 영입한 것으로 조사됐다.

검찰에 따르면 A씨는 B씨와 공모해 삼성전자에서 ‘10나노대 D램 공정 기술’을 가져오기 위해 삼성전자 소속 핵심인력 확보에 돌입했다. 이에 따라 2016년 9월 삼성전자 핵심연구원이었던 C씨(수배 중)가 이직하는 과정에서 수백 단계의 10나노대 공정 정보를 자필로 베껴 유출했고, CXMT는 C씨가 유출한 정보를 통해 당시 세계 유일 10나노대 D램 공정 기술을 통째로 확보하게 됐다고 검찰은 밝혔다.

CXMT는 이후 삼성전자 임직원들을 추가로 영입해 D램 개발에 본격적으로 착수했고, 일련의 과정을 통해 지난 2023년 중국 최초이자 세계에서 4번째로 10나노대 D램 양산에 성공했다. 검찰은 CXMT가 협력업체를 통해 SK하이닉스의 반도체 공정 관련 기술도 추가로 확보했다고도 밝혔다.

검찰은 다만 삼성전자의 공정 정보를 자필로 베껴 유출한 C씨의 신병은 확보하지 못한 상황이다. 검찰 관계자는 “(C씨는) 중국에 계속 체류 중이고, 인터폴 적색 수배 중”이라며 “송환 일정 등에 대해 계속 검토하고 있는데, 지금 좀 쉽지 않은 부분도 있고 해서 현재까지는 신병이 확보되지 않았다”고 설명했다.

검찰은 이 사건으로 한국 기업에 막대한 경제적 피해가 발생했다고 지적했다. 검찰 관계자는 “전세계 점유율 변화를 근거로 추정한 2024년 매출액 감소만 5조원 상당으로, 국내 반도체 관련 산업의 규모(전체 수출액 중 20.8%) 등을 고려하면 향후 국가경제에 발생하는 피해액은 최소 수십조원에 달할 것으로 예상된다”고 했다.

아울러 “앞으로도 국가경제 및 기술안보를 심각하게 위협하는 산업기술의 국외 유출범죄에 엄정 대응하는 한편, 피고인들이 범죄에 상응하는 형을 받도록 공소유지에 만전을 기할 예정”이라고 강조했다.